TANTALIO ALEADO
Aleaciones y materiales base tantalio empleados en ambientes altamente corrosivos y procesos de alta exigencia química. También utilizados en componentes para vacío, electrónica y deposición de películas delgadas.
Composición química de TANTALIO ALEADO
TANTALIO 2.5% TUNGSTENO
H: ≤ 0.0015%
C: ≤ 0.01%
N: ≤ 0.01%
O: ≤ 0.015%
Ti: ≤ 0.002%
Fe: ≤ 0.01%
Ni: ≤ 0.005%
Nb: ≤ 0.1%
Mo: ≤ 0.02%
W
2.75%
W: 2.0% ~ 3.5%
Ta
97.0765%
Ta: balance · 97.0765%
H
C
N
O
Ti
Fe
Ni
Nb
Mo
Ver composición
- H H: ≤ 0.0015%
- C C: ≤ 0.01%
- N N: ≤ 0.01%
- O O: ≤ 0.015%
- Ti Ti: ≤ 0.002%
- Fe Fe: ≤ 0.01%
- Ni Ni: ≤ 0.005%
- Nb Nb: ≤ 0.1%
- Mo Mo: ≤ 0.02%
- W W: 2.0% ~ 3.5%
- Ta Ta: balance · 97.0765%
TANTALIO 10% TUNGSTENO
H: ≤ 0.0015%
C: ≤ 0.01%
N: ≤ 0.01%
O: ≤ 0.015%
Ti: ≤ 0.002%
Fe: ≤ 0.01%
Ni: ≤ 0.005%
Nb: ≤ 0.1%
Mo: ≤ 0.02%
W
10%
W: 9.0% ~ 11.0%
Ta
89.8265%
Ta: balance · 89.8265%
H
C
N
O
Ti
Fe
Ni
Nb
Mo
Ver composición
- H H: ≤ 0.0015%
- C C: ≤ 0.01%
- N N: ≤ 0.01%
- O O: ≤ 0.015%
- Ti Ti: ≤ 0.002%
- Fe Fe: ≤ 0.01%
- Ni Ni: ≤ 0.005%
- Nb Nb: ≤ 0.1%
- Mo Mo: ≤ 0.02%
- W W: 9.0% ~ 11.0%
- Ta Ta: balance · 89.8265%